Шефер ОВ. Перспективи та особливості застосування плазми порожнистого катода для підвищення завадостійкості супутникових телекомунікацій. ОВТ [інтернет]. 27, Червень 2017 [цит. за 05, Березень 2026];14(2):62-5. доступний у: https://journal.cndiovt.com.ua/index.php/ovt/article/view/35